ดับบลิวทีไอ
การสปัตเตอร์เป็นหนึ่งในเทคโนโลยีหลักในการเตรียมวัสดุฟิล์มบาง เทคโนโลยีนี้ใช้ไอออนที่สร้างขึ้นโดยแหล่งไอออนเพื่อเร่งความเร็วและรวบรวมในสุญญากาศเพื่อสร้างลำแสงไอออนความเร็วสูงซึ่งโจมตีพื้นผิวของแข็ง ไอออนและอะตอมบนพื้นผิวของแข็งแลกเปลี่ยนพลังงานจลน์ อะตอมบนพื้นผิวของแข็งจะถูกแยกออกจากของแข็งและสะสมบนพื้นผิวของสารตั้งต้น ของแข็งที่ถูกโจมตีเป็นวัตถุดิบในการสะสมฟิล์มบางโดยการสปัตเตอร์ ซึ่งเรียกว่าเป้าหมายการสปัตเตอร์ วัสดุฟิล์มบางแบบสปัตเตอร์หลายประเภทใช้กันอย่างแพร่หลายในวงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ สื่อบันทึก จอแสดงผลแบบแบน และการเคลือบพื้นผิวชิ้นงาน
ซัพพลายเออร์เป้าหมายการสปัตเตอร์ทังสเตน
เป้าหมายการสปัตเตอร์ส่วนใหญ่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และข้อมูล เช่น วงจรรวม การจัดเก็บข้อมูล หน้าจอ LCD หน่วยความจำเลเซอร์ อุปกรณ์ควบคุมอิเล็กทรอนิกส์ เป็นต้น สามารถใช้ในด้านการเคลือบกระจกได้ สามารถใช้ในวัสดุที่ทนทานต่อการสึกหรอและวัสดุที่ทนต่อการกัดกร่อนที่อุณหภูมิสูง อุปกรณ์ตกแต่งระดับไฮเอนด์และอุตสาหกรรมอื่นๆ
การผลิตเป้าหมายการสปัตเตอร์ทังสเตน
